- レジスト用のモノマーとして有用な化合物です。
- 形成されるレジスト被膜は、弱酸性条件で保護基であるエトキシエチル基が脱離することにより、極性溶媒への溶解性が向上します。
- 電子材料用途として金属不純物は極めて低レベルに抑えられています。
基本情報
| 化学名 | ｐ-（１-エトキシエトキシ）スチレン (p-(1-Ethoxyethoxy)styrene） |
構造式 |  |
|---|---|---|---|
| 分子量 | 192.25 | CAS番号 | 157057-20-0 |
| 化審法 | 3-4590 | TSCA | 未登録 |
| EC番号 | 未登録 |
